INFICON ALD探头（传感器）

在 ALD 应用中实现准确度、正常运行时间和最少维护
INFICON ALD 传感器将石英晶体微天平（QCM）测量的可重复性、精确性和耐用性带入原子层沉积 （ALD）。ALD 传感器可承受高达 450oC 的高温，设计在严苛的 ALD 应用环境中运行。裸露的晶体电极*接地以有效地消除与电干扰有关的任何潜在问题。
专为 ALD 而设计
INFICON ALD 传感器*的一种功能是导气管，通过它可使用惰性气体吹扫晶体和传感器后侧，通常使用氮气。这可防止反应室的气体进入传感器头，并确保晶体背面和电气触点无沉积材料。这种技术可在不适合使用标准 QCM 的系统中实现现场测量。
馈入件和馈入件连接
INFICON ALD 传感器可采用自定义焊接长度，也可采用长度可调的压缩接头而无需铜焊或焊接。所有配置都使用 2 3/4in. （CF40） ConFlat® 法兰馈入件。
高温晶体实现更准确的测量
与 INFICON 的新型高温石英晶体结合使用时，INFICON ALD 传感器可在高温应用中达到测量精度和较低的频率噪声。这些高温晶体针对 120、240 和 285°C 应用进行了优化，因此您总能获得适合自己应用的正确晶体。也可提供针对其他温度优化过的晶体。请根据自己的需求联系 INFICON。

功能

• 工作温度高达 450°C

• 气体吹扫管路可防止晶体背面出现沉积材料

• 焊接式 Conflat 法兰 （CF40） 选件

• O 形密封环压缩接头选件

• 提供高温晶体

好处

• 与大多数 ALD 过程温度兼容

• 明显减少维护工作

• zuidahua系统运行时间

• zuidahua测量精度

• 在高过程温度下可获得低噪声的稳定读数

典型应用

• 原子层沉积 （ALD）